Philips Sonicare C2 Optimal Plaque Defence Náhradné hlavice

Kefkové hlavice Philips Sonicare C2 Optimal Plaque Defence ponúkajú unikátne hlbkové čistenie zubov so zameraním na optimálne odstránenie zubného povlaku v rámci každodennej starostlivosti o ústnu dutinu.

Vlastnosti kefkových hlavíc Sonicare C2 Optimum Plaque Defence:

• odstraňujú až 7x viac plaku ako manuálne zubné kefky,
• hlavice majú špeciálne zaoblenú špičku pre ľahšie čistenie zadných zubov,
• husto vysadené jemné štetiny,
• hlavica je synchronizovaná s funkciou kefky BrushSync, pomocou ktorej vyberá optimálny režim a intenzitu čistenia,
• inovatívne sonická technológia vháňa vodu medzi zuby, čím efektívne odstraňuje zubný povlak,
• hlavice je možné použiť na akúkoľvek sonickú zubnú kefku Philips (okrem kefiek Philips One).